烟台机械转台定制

适用于实验室和车间环境;电压：220V或380V交流电压，50Hz;气源：0.4MPa的过滤干燥空气;温度：20℃±5℃;湿度：<60%;其他：避免酸碱等腐蚀性气体浸蚀HUE--D1331系列超精密气浮导轨主要采用花岗岩、金属或陶瓷制作，配有精密导轨基体、气浮套和高洁净空气净化器。采用多项发明专利技术进行高精度、高刚度结构设计和气体润滑及支撑参数设计，使导轨兼有高精度、高刚度和高承载的特点;并使导轨工作状态平稳，在运动和定位状态下均无气体紊流振动、啸叫、噪声及高频微振等。控制特性分为有驱动和无驱动两种，按其需要进行驱动配置。

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科学意义及应用价值：融合了衍射光学技术和超分辨光瞳滤波技术的各自特性，其与传统的环形透镜式共焦测量系统相比，在达到同等横向分辨力的情况下，由于整形环形光技术的采用使共焦显微镜的横向和轴向强度响应中心峰值的能量损失减小到1/(1-ε2)2倍，同时环形透镜内环边缘的衍射对测量系统造成的影响，横向分辨力优于0.2μm。本技术涉及光学扫描显微成像及微观扫描测量技术领域，可用于测量样品的三维表面形貌、三维微细结构、微台阶、微构槽、集成电路线宽等。

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HUE-G2631是哈尔滨工业大学、江南游戏（中国）官方网站联合开发的新一代大型/超大型气浮隔微振装置。本产品是超大型基础性平台设备，可用于大型/超大型精密仪器及系统、光学仪器及系统、超精密制造装备和工作母机等高端装备的加工、装调、测试与使用，在支撑大型高端和尖端超精密装备制造和使用中具有不可替代的重要作用。30余项中外发明专利技术授权国家科技重大专项推介产品在北京空间机电研究所(5 0 8所)、哈尔滨量具刃具集团等单位应用

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由我公司承担的上海微电子装备有限公司(SMEE)的光刻机计量框架和基础框架制造任务于2017年2月13日通过预验收与交付，这标志着我公司对于精密复杂构件的制造能力提升至一个新的台阶。光刻机被称为“智能制造业中的珠穆朗玛峰”，其中的计量框架是整个光刻机的工作基准平台，尺寸庞大(2.2m´1.9m)，结构复杂，仅定位销孔一百二十多个；螺纹孔四百多个；基础框架是整个光刻机的基本支持体，尺寸达2.75m´1.86m´1.37m，其螺纹孔有三百多个。计量框架与基础框架中对任何加工部位的位置、形状、尺寸、表面形貌等要求相当高，正常的制造周期为6个月。

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为做好国家首批国家重大科学仪器开发专项项目验收工作，6月26日至27日，科技部科研条件与财务司副司长吴学梯、工业和信息化部科技司副司长李力先后来我公司考察，了解我公司的国家重大科学仪器设备开发专项项目。工业和信息化部、省工信委相关领导，我公司董事长等参加现场考察。吴学梯在考察时强调了国家实施创新驱动发展战略的重要意义和迫切性，详细了解了谭久彬教授所承担的“超高分辨率反射式立体层析共焦显微镜研制”项目在核心技术突破、工程样机和产品样机研制、测试验证、第三方异地测试的准备、产业前景和产业化途径、知识产权保护、标准制定以及经费使用等方面的进展情况。